真空閘閥 主要用於控制進入腔體的氣體流量,以隔離來自泵的真空體積,以隔離來
自HV或UHV工作室的進料口,並實現真空和大氣之間的物體轉移。因此,它們最
常用於離子注入系統,OMBD系統和電子束蒸發系統中,以用於諸如半導體製造等
高真空應用。它們還用於金屬塗飾工藝和航空工業中,以開發防腐蝕塗料。
閥是全孔大流量的,不會阻礙流體流動,因此不會因摩擦而造成損失。
閘閥最常用於開/關應用,而不是調節流量。